“光信息计算机处理技术”研究方向

光信息计算机处理技术研究方向

目前从事

本方向的

研究人员

主要学术带头人及学术骨干姓名

高级职称人数

副高级职称人数

拥有博士学位人数

曾阳素

曾文飞

王少杰

1

2

1

本方向人员所做工作的主要内容：

光信息的计算机处理、微光学、数字全息研究工作、厚层光致抗蚀剂光刻术研究和大口径光栅透镜的研究。

特色：

厚层光致抗蚀剂光刻术研究基于光学、光化学、化学动力学等理论，通过等效介质、矩阵传递等新概念的引入进行厚胶成像、曝光、显影等机理的理论分析，将通过实验深入研究厚胶光刻工艺参数在图形传递过程中的作用。建立适于厚胶光刻描述的新模型及相应的工艺条件。为设计和制作深浮雕微光学元件及微机械结构提供光刻理论依据，推动MEMS和MOEMS研究新发展，同时也为厚光刻胶光刻专用设备的研制打下基础。大口径光栅透镜的研究，基于ICF所需光栅透镜的尺寸大、线宽渐变、特征尺寸小的特点，首先将光栅透镜划分成许多小分区，又因为其相邻线宽变化十分微小，可将每一分区看成为线宽间距不变的周期光栅，采用这种近似的物理模型，利用傅里叶模方法对其衍射特性进行分析，既可保持该方法数值计算速度快的优点，又可获得满意的结果。为光栅透镜的设计和分析提供了一种有效方法。根据电磁场理论并发展傅里叶模方法，我们将编制相应的计算程序，对光栅透镜的衍射效率和取样效率进行研究。

拟取得的突破：

发表有关厚层光致抗蚀剂光刻术研究和大口径光栅透镜研究的科研论文20余篇，培养教授、博士各1名，硕士若干名，有望取得省部级以上科研成果1-2项。